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特徵耐高溫,其耐熱溫度150℃,瞬間溫度200℃應用擴散爐、熔接機等半導體製造設備、熱處理設備、真空用途﹝無塑膠、橡膠等製品之氣體釋出﹞
耐高溫,其耐熱溫度150℃,瞬間溫度200℃
擴散爐、熔接機等半導體製造設備、熱處理設備、真空用途﹝無塑膠、橡膠等製品之氣體釋出﹞
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